以颗粒状的干冰作为清洗介质,通过压缩空气将干冰微粒高速喷向清洗物表面,使清洗物表面的污垢冷冻至脆化并爆裂,干冰微粒通过撞击作用渗透到污垢及基层材料之间,随即升华,体积瞬时增大800倍,迫使污垢与基层材料脱离,达到清洗的目的。解决微纳电子制造产业如半导体、光学、液晶面板等行业表面污染物清洗困难。
类 |
序号 |
清洗方法 |
异物粒子祛除 |
膜层祛除 |
对物件的损伤 |
干燥工序 |
环境污染 |
难题 |
湿法 |
1 |
纯水 |
一般 |
较差 |
一般 |
要 |
差 |
水膜再着附,金属元素残留 |
2 |
有机溶剂 |
一般 |
较好 |
较大 |
要 |
大 |
有机溶剂再着附,溶剂后处理 |
干法 |
3 |
纳米干冰 |
很好 |
易 |
较低 |
无 |
无 |
清洗面积较小 |
4 |
超声波 |
一般 |
难 |
一般 |
无 |
无 |
固体异物,微细颗粒难除净 |
5 |
空气 |
一般 |
难 |
一般 |
无 |
无 |
固体异物,微细颗粒难除净 |
6 |
大气等离子 |
易 |
一般 |
较大 |
无 |
无 |
清洗能力较差 |
纳米干冰对异物颗粒、膜祛除效果好,对物件损伤小,无需额外干燥。具有更多优势。
型号 |
纳米干冰清洗机WMGB02 |
外形尺寸 |
L995×W800×H1175 mm |
重量 |
180Kg |
电源 |
AC220V 50Hz 单相 |
功率 |
3.5kW |
CO2喷射系统 |
介质 |
气态/液态CO2 |
CO2压力 |
≥3MPa |
喷嘴规格 |
0.1mm~4mm |
喷头类型(选配) |
单喷头/多喷头/喷枪 |
CO2消耗量 |
50~200g/min |
CO2恒温系统 |
介质 |
水/制冷剂 |
容量 |
4L |
温度调节范围 |
室温~10℃ |
CO2增压系统 |
驱动介质 |
压缩空气 |
驱动气压 |
0.1~0.5MPa |
增压比 |
1:15 |
增压量 |
320L/min |
CDA辅助系统 |
CDA气体 |
压缩空气/氮气 |
CDA压力 |
0.1~0.3MPa |
CDA温度调节 |
标配 |